SK hynix, ASML’nin yüksek sayısal açıklıklı (High-NA) EUV litografi ekipmanını tesislerine entegre eden ilk üretici oldu; TSMC ve Samsung’un önüne geçti.
SK hynix, uçtan uca çözümleri ve özellikle NVIDIA ile işbirliği sayesinde DRAM tarafında en büyük ve en gelişmiş oyunculardan biri haline geldi. Şirket şimdi Güney Kore, Icheon’daki M16 fabrikasında ASML’nin High-NA EUV sistemini devreye alarak hem rakiplerini geride bıraktı hem de yeni nesil DRAM teknolojilerine zemin hazırladı. SK hynix, bu adımın “öncü ürünlerin” geliştirilmesini hızlandıracağını vurguluyor.
ASML’nin yüksek NA EUV ürün hattında hacimli üretim için ilk model olan TWINSCAN EXE:5200B, mevcut EUV sistemlerine kıyasla sayısal açıklığı 0.33’ten 0.55’e çıkarıyor. Bu da transistör boyutlarını 1.7 kat küçültmeye ve transistör yoğunluğunu 2.9 kat artırmaya imkan veriyor. SK hynix, yeni sistemle EUV süreçlerini sadeleştirmeyi, bir sonraki nesil belleğin geliştirme hızını artırmayı, performans ve maliyette avantaj yakalamayı hedefliyor. Böylece yüksek katma değerli bellek pazarındaki konumunu daha da güçlendirmeyi amaçlıyor.
Daha önceki bir raporda, SK hynix’in DRAM tarafında High-NA EUV tasarımlarına geçerek EUV katman sayısını altıya çıkaracağı ve “katman sınırını” aşmak için bu ekipmanın kritik olduğu konuşuluyordu. Artık ASML’nin en üst düzey makineleri şirketin elinde olduğuna göre, bellek pazarında bir sonraki sıçrama için taşlar yerine oturuyor.
Kısacası SK hynix, NVIDIA ve AMD gibi müşteriler için DRAM tedarikinde “başvurulan adres” haline gelmeyi başardı ve kısa sürede Samsung’un liderliğini sarsmayı bildi. High-NA entegrasyonu, şirketin hız kesmeyeceğinin ve pazarda hem kalite hem rekabet anlamında iddialı kalacağının en net göstergesi.
Kaynak: wccftech.com
