Japonya’nın Rapidus’u 2 nm sürecinde vites yükseltiyor. İlk kez bu düğümün mantık yoğunluğu paylaşıldı ve görünen o ki TSMC’nin N2 süreciyle aynı seviyede.
Rapidus son aylarda ciddi ilgi topladı. Ülkenin önde gelen dökümcüsü konumunda ve NVIDIA’nın da ilgisini çekmiş durumda. Şirketin “2HP” adını verdiği 2 nm düğümü, paylaşılan yeni verilere göre TSMC N2 ile benzer mantık yoğunluğuna ulaşıyor ve Intel’in 18A sürecini belirgin biçimde geride bırakıyor. Bu da Rapidus’un pazara güçlü bir sürpriz yapabileceğini gösteriyor.
Paylaşıma göre Rapidus 2HP, 237,31 MTr/mm² mantık yoğunluğuna ulaşıyor. TSMC N2 için bugün konuşulan değer 236,17 MTr/mm². Bu seviyeye HD (High Density – yüksek yoğunluk) hücre kütüphanesiyle, 138 birim hücre yüksekliği ve G45 hat aralığıyla çıkıldığı belirtiliyor. N2 ve 2HP’nin benzer rakamlar vermesi, her iki düğümün de en yüksek mantık yoğunluğunu hedefleyen HD tarzı hücrelere odaklandığını düşündürüyor. Nihai ürünler çıktığında transistör sayıları da yakın olabilir.
Intel cephesinde 18A’nın mantık yoğunluğu 184,21 MTr/mm² olarak anılıyor. Buradaki farkın bir nedeni, kıyaslamalarda HD kütüphanelerin esas alınması. Diğer önemli etken de arka yüz güç dağıtımı (BSPDN). Bu yöntem ön yüzdeki bazı metal katmanlarını güç için ayırınca HD ölçümünde yoğunluk düşebiliyor. Intel’in odağı performans/enerji verimliliği olduğu için en yüksek yoğunluk şirketin ana hedefi değil. Üstelik 18A ağırlıkla Intel’in kendi ürünleri için planlanıyor.
Rapidus ayrıca tek wafer’lık ön uç işleme hattı kullanıyor. Bu yaklaşım, düşük hacimde hızlı deneme ve ayar yapmaya, sonra da iyileştirmeleri ölçeklemeye imkân veriyor. TSMC’nin 2 nm yol haritası da planlandığı gibi ilerliyor ve yarışı önde götürüyor. Rapidus tarafında 2 nm PDK’nın (proses tasarım kiti) 2026’nın ilk çeyreğinde müşterilere açılması bekleniyor. Şimdilik görünen tablo umut verici.
Kaynak: wccftech.com
